【摘 要】
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采用磁控溅射的方法,在诱导磁场下制备了[(Ni0.79Fe0.21)1-xNbx]/NiFe/Ta系列膜,测量了种子层中Nb原子的百分含量、膜的微结构和膜的MR(Magnetoresistance),研究了种子层的厚
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采用磁控溅射的方法,在诱导磁场下制备了[(Ni0.79Fe0.21)1-xNbx]/NiFe/Ta系列膜,测量了种子层中Nb原子的百分含量、膜的微结构和膜的MR(Magnetoresistance),研究了种子层的厚度和种子层中Nb原子的百分含量对NiFe的MR的影响.实验表明:以NiFeNb为种子层可较明显的改善Ni0.79Fe0.21膜的微结构,提高其磁电阻性能.
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