【摘 要】
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以化学气相沉积（CVD）制备的单层石墨烯为原料, 小分子三嗪为掺杂剂, 采用吸附掺杂的方式, 在低温下对石墨烯实现n型掺杂。利用拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱分析（XPS）、原子力
【机 构】
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上海大学材料科学与工程学院,中国科学院宁波材料技术与工程研究所
【基金项目】
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浙江省自然科学基金（Q15E020007）,宁波市自然科学基金（201501HJ-B01248）,国际科技合作专项（S2015ZR1100）
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以化学气相沉积（CVD）制备的单层石墨烯为原料, 小分子三嗪为掺杂剂, 采用吸附掺杂的方式, 在低温下对石墨烯实现n型掺杂。利用拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱分析（XPS）、原子力显微镜（AFM）、紫外分光光度计（UV）和霍尔效应测试仪（Hall）对样品的形貌、结构及电学性能进行表征。结果表明： 该方法简单安全, 能够对石墨烯实现均匀的n型掺杂, 掺杂石墨烯的透光率达到95%。掺杂后石墨烯的特征峰G峰和2D峰向高波数移动。掺杂180 min后, 载流子浓度达到4×1012/cm2, 接
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