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本文介绍了在常压下合成的类金刚石膜（AP-DLC films），并对其阻气性和硬度进行了测量。采用射频等离子体化学气相沉积法（RF—PCVD）可在室温下获得均匀的类金刚石膜（薄膜面积450mm^2）。薄膜的沉积速率随C2H2体积浓度的增加而增大，平均沉积速率约为12μm／min。最大沉积速率1μm／s，约是低气压等离子体化学气相沉积法下薄膜沉积速率（1～2μm／h）的2000倍。APDLC膜（1μm厚）的阻气性是未处理PET基材的5～10倍。采用纳米压痕仪测得AP—DLC膜的显微硬度约为3GPa。薄膜表面