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提出了一种利用等离子体弧抛光CVD金刚石膜的新工艺。通过试验，对其抛光机理作了初步探讨，并对试样进行了实际抛光。结果表明，用等离子体弧加工金刚石膜确实具有抛光效果。粗糙度的降低可以认为有两种机制：一种是熔点以下的氧化刻蚀、石墨化、石墨氧化和溅射，石墨化是关键的因素；另一种是熔点以上的熔化流动、爆炸抛出和弧柱的吹力作用。