【摘 要】
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在被釉氧化铝陶瓷基片上，采用真空电阻蒸发法和等离子体增强化学气相沉积法制备了Au／NiCr电极薄膜及氮化硅（siM）介质薄膜，并对薄膜进行光刻图形化，制成了Au／NiCr／SiNx／Au／NiCr结构的MIM
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
【基金项目】
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广东省教育部产学研结合重点资助项目(No2007A090302035)
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在被釉氧化铝陶瓷基片上，采用真空电阻蒸发法和等离子体增强化学气相沉积法制备了Au／NiCr电极薄膜及氮化硅（siM）介质薄膜，并对薄膜进行光刻图形化，制成了Au／NiCr／SiNx／Au／NiCr结构的MIM电容器。研究了所制电容器的介电性能、介温性能和I-V矿特性等电学性能。结果表明：所得MIM电容器具有很低的介电损耗（1MHz时tan6为0．00192）及很高的电压稳定性；在-55～＋150℃的范围内其1MHz时的电容温度系数为258×10^-6／℃：另外，其^矿特性曲线显示出较好的对称性，
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