笑气中氧和水份对等离子氧化膜质量影响的探讨

来源 :低温与特气 | 被引量 : 0次 | 上传用户：RyanD

【摘要】

：

一、前言随着硅片尺寸的增大和器件集成度的提高，高质量的绝缘膜对提高器件的成品率有很大的影响。利用等离子增强化学法气相淀积技术(PECVD)生长的等离子氧化膜，能较好地满足

【作者】

：

李智玲李世莲

【机构】

：

中国科学院一0九厂

【出处】

：

低温与特气

【发表日期】

：

1986年1期

【关键词】

：

氧化膜质量影响水份等离子增强淀积技术 SIH4 二氧化硅集成度器件成品率绝缘膜化学法反应气 CVD 粉末状无定形氧气硅烷气相

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一、前言随着硅片尺寸的增大和器件集成度的提高，高质量的绝缘膜对提高器件的成品率有很大的影响。利用等离子增强化学法气相淀积技术(PECVD)生长的等离子氧化膜，能较好地满足器件所要求的各种淀积特性。其反应气可采用硅烷SiH4和笑气N2O0大量氧气和水的存在，对CVD氧化膜的质量有很大的影响。硅烷遇氧气或水就生成无定形白色粉末状的二氧化硅：

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