负偏压下(Ni-Mo)/TiO2膜电极光电催化降解罗丹明B的性能和机理

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用复合电沉积方法制备了(Ni-Mo)/TiO2薄膜电极,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman Spectra)和紫外-可见漫反射光谱(DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构和光谱特性进行了表征,在负偏压和可见光作用下,以罗丹明B为模拟污染物研究了薄膜的光电催化性能.采用电化学技术和向溶液中加入活性物种捕获剂的方法对薄膜光电催化降解机理进行了探索.结果表明:(Ni-Mo)/TiO2薄膜是由粒径为50~100 nm的TiO2纳米粒子相和纳米晶Ni-Mo固溶体相构成的复合薄膜.薄膜具有较高的光电催化活性,在-0.4 V偏压和可见光照射下反应60 min,复合薄膜光电催化罗丹明B(c=5 mg/L)的降解率是多孔TiO2(P25)/ITO纳米薄膜的1.56倍.复合薄膜电极中Ni-Mo纳米晶合金对溶解氧和激发电子还原反应的催化作用是光电催化降解活性提高的重要原因.通过调节外加偏压,可以控制电极溶液界面间染料与活性氧化物种的存在形式及其相互作用,是研究可见光催化降解反应历程的有效方法.在负偏压和可见光作用下,羟基自由基和染料正离子自由基对染料的光电催化降解有决定性作用. (Ni-Mo) / TiO2 thin film electrodes were prepared by the composite electrodeposition method. The surface morphology of the films was characterized by scanning electron microscopy, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and UV- The surface morphology, crystal structure and spectral properties of the films were characterized. Under the action of negative bias and visible light, the photoelectrocatalytic properties of the films were investigated using rhodamine B as a simulated pollutant. Electrochemical techniques and addition of (Ni-Mo) / TiO2 thin film is composed of TiO2 nanoparticle with particle size of 50-100 nm and nanocrystalline Ni-Mo solid solution phase The photocatalytic activity of Rhodamine B (c = 5 mg / L) was much higher than that of porous TiO2 (P25 ) / ITO nanostructured films.The catalytic action of Ni-Mo nanocrystalline alloy on the reduction of oxygen and excited electrons in the composite thin film electrode is an important reason for the increase of photoelectrocatalytic degradation activity.The electrode solution can be controlled by adjusting the bias voltage Interfacial dyes and Oxide species present in the form of their interaction, is an effective way to study the catalytic reaction scheme visible degradation in negative bias and visible light under the action of hydroxyl radicals and radical cations of the dye Dye degradation photoelectrocatalytic have a decisive role.
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