【摘 要】
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聚酰亚胺膜(PI)是一种特殊的功能性薄膜,缺点是与金属膜层结合力很差,表面处理是一种提高PI膜和金属膜层结合力的非常有效方法.本文结合MEVVA(金属真空蒸汽离子源)离子注入技
【机 构】
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北京师范大学教育部射线束技术与材料改性重点实验室
【基金项目】
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新博士点基金资助项目(20110003120010);北京师范大学教育部重点实验室资助项目;国家自然科学基金资助项目(10975020)
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聚酰亚胺膜(PI)是一种特殊的功能性薄膜,缺点是与金属膜层结合力很差,表面处理是一种提高PI膜和金属膜层结合力的非常有效方法.本文结合MEVVA(金属真空蒸汽离子源)离子注入技术和磁过滤沉积技术对PI膜表面进行改性处理;经4.5×1015 cm-2注量的Ni离子注入后,PI膜层表面形貌变化很小,经FTIR分析表面的苯环,酰亚胺环等特征吸收峰强度未有变化,即未造成表面的键断裂等损伤.经4.5×1015 cm-2 Ni注入(10kV)+10nm Ni沉积+4.5×1015 cm-2 Ni注入(12kV)+100nm Ni沉积处理后的膜表面形貌发生了较大的变化,形成表面不再平整的过渡层,这过渡层和聚酰亚胺膜有机结合在一起形成了混合钉扎状态,即过渡层和聚酰亚胺表面膜层发生化学作用,这点从膜层剥离后PI膜的特征吸收的消失可以得到直接验证.还利用SRIM和TRIDYN理论模拟计算了10kV的3种不同注量的Ni离子注入PI膜层的射程以及浓度随着深度的变化曲线,比较直接的显示了Ni离子富堆积深度为17.5nm.
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