用红宝石激光加速集成电路光掩模的沉积

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong567
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据美帝国际商业机械公司的莫罗(W.Moreau)说,用红宝石激光器几乎可以立即完成沉积集成电路光掩模的冗长的过程。这种技术要求从一个表面蒸发金属图象并精确地沉积到另一表面上去,而不使尺寸仅为几微米的图案畸变。 According to W. Moreau of ICMIC, the long process of depositing an integrated circuit photomask can be done almost instantaneously with ruby ​​lasers. This technique requires that the metal image be evaporated from one surface and precisely deposited on the other surface without distorting the pattern only a few microns in size.
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