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本文在对阳极氧化反应形成多孔硅及对多孔硅选择性生长机理、刻蚀研究的基础上，在硅片上做出到衬底距离大于５０μｍ的微桥结构。然后在微桥上溅射镍—铬电阻薄膜，形成温敏传感器微结构，并对其温度电阻特性，热响应时间进行了测量。利用该结构本文还设计出一种新型的温敏、气敏多功能传感结构。
多孔硅微机械加工温敏传感器的研究
【摘 要】
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本文在对阳极氧化反应形成多孔硅及对多孔硅选择性生长机理、刻蚀研究的基础上，在硅片上做出到衬底距离大于５０μｍ的微桥结构。然后在微桥上溅射镍—铬电阻薄膜，形成温敏传感器微结构，并对其温度电阻特性，热响应时间进行了测量。利用该结构本文还设计出一种新型的温敏、气敏多功能传感结构。
【机 构】
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华东师范大学电子系
【出 处】
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仪表技术与传感器
【发表日期】
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0年YBJS803.001期
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