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本文对溅射高温超导薄膜的过程中所产生的二次溅射效应（Ｒｅｓｐｕｔｔｅｒ－Ｅｆｆｅｃｔ）作了较系统的理论分析，观察敢ＹＳＺ－Ｓｉ衬底上磁控溅射ＢＳＣＣＯ高温超导薄膜时二次溅射效应所产生的影响，并通过采用偏轴溅射代替轴溅射而有效地缓解了该效应。
YSZ—Si上溅射BSCCO超导薄膜的二次溅射效应
【摘 要】
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本文对溅射高温超导薄膜的过程中所产生的二次溅射效应（Ｒｅｓｐｕｔｔｅｒ－Ｅｆｆｅｃｔ）作了较系统的理论分析，观察敢ＹＳＺ－Ｓｉ衬底上磁控溅射ＢＳＣＣＯ高温超导薄膜时二次溅射效应所产生的影响，并通过采用偏轴溅射代替轴溅射而有
【机 构】
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东南大学微电子中心
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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1997年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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