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碳化硅薄膜有密度小、热导率高、热膨胀系数低、硬度高等优异的性能。介绍了制备碳化硅薄膜的2种常用方法,即化学气相沉积和磁控溅射技术,比较了2种方法的各自优势。总结了碳化硅薄膜光学性能及短波发光特性的研究进展。
碳化硅薄膜制备方法及光学性能的研究进展
【摘 要】
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碳化硅薄膜有密度小、热导率高、热膨胀系数低、硬度高等优异的性能。介绍了制备碳化硅薄膜的2种常用方法,即化学气相沉积和磁控溅射技术,比较了2种方法的各自优势。总结了碳
【机 构】
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兰州物理研究所
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2009年04期
【基金项目】
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表面工程技术国家级重点实验室基金项目(914C540107090C54)资助
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