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通过光热偏转谱(PDS)研究了衬底温度对用超高频辉光放电(VHF-GD)制备的a-Si:H光学特性的影响,考虑了电子在缺陷态的相关统计,数字拟合各样品在不同亚稳状态下PDS次带吸收谱(0.8 ̄1.7eV),获得带尾态,光能隙,缺陷态分布及相关能等电子态结构参数。结果表明,缺陷态分布随光照时间向能隙深处移动,相关能增加,在电中性条件下,用迭代法求出费米能级与电导率,与实验结果吻合较好,分析讨论所用计