La掺杂的SnO2-Sb中间层对钛基IrO2+Ta2O5电极性能的影响

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目的改善Ti/IrO2+Ta2O5涂层电极的析氧电催化性能。方法用热分解法在钛基材上制备了La掺杂的SnO2-Sb中间层,并以此作为基体涂覆IrO2+Ta2O5活性层,制备了Ti/SnO2-Sb-La/IrO2+Ta2O5涂层电极。采用扫描电子显微镜(SEM)、能量散射能谱(EDS)及X-射线衍射光谱(XRD)技术分别分析了中间层和活性层的表面形貌、元素组成及晶相结构。采用线性扫描伏安曲线(LSV)和强化寿命测试方法在硫酸溶液中分别研究了Ti/SnO2-Sb-La/IrO2+Ta2O5涂层电极的析氧电催化活性和使用稳定性。同时,考察了La的掺杂比例对Ti/SnO2-Sb-La/IrO2+Ta2O5电极强化寿命的影响。结果相对未掺杂La的中间层,掺杂La后的中间层表面裂纹减少,有更高的析氧过电位和更低的析氧电流密度。La掺杂对活性层的表面形貌和晶相结构基本没有影响,但电极的析氧电流密度有所提高。通过测试不同La掺杂比例涂层电极的强化寿命,发现La最佳掺杂比例为nLa:nSn=0.5:100。和未掺杂La涂层相比,La最佳掺杂比例涂层电极的强化寿命提高了22.8%。结论相对于未掺杂的Ti/SnO2-Sb/IrO2+Ta2O5电极,La掺杂后的Ti/SnO2-Sb-La/IrO2+Ta2O5涂层电极析氧电催化活性和强化寿命都得到改善。
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