【摘 要】
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采用密度泛函理论(DFT)方法研究了NO和NH3在完整和有缺陷的γ-Al2O3(110)表面吸附与SCR(选择催化还原)反应特性。研究表明,NO在完整的(110)表面的吸附作用较弱,而NH3分子的吸
【机 构】
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华中科技大学煤燃烧国家重点实验室,河南理工大学机械与动力工程学院
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采用密度泛函理论(DFT)方法研究了NO和NH3在完整和有缺陷的γ-Al2O3(110)表面吸附与SCR(选择催化还原)反应特性。研究表明,NO在完整的(110)表面的吸附作用较弱,而NH3分子的吸附作用较强,NH3分子在Al原子顶位可形成稳定吸附。反应路径研究结果表明完整的(110)表面上SCR反应的决速步为—NH2NO基团的分解,反应的最大能垒为235.75 kJ·mol-1。对于产生氧空穴的有缺陷(110)表面,NO和NH3均可稳定吸附,NH3在吸附过程中可直接裂解成NH2和H。另外,SCR反应在有缺陷(110)表面的最大能垒明显较低,说明氧空穴的存在促进了SCR脱硝反应的进行。
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