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通过对不同组合比的PZT薄膜湿法刻蚀技术研究，成功地配制出两种不同的刻蚀液，主要以HF、NH4F、HCl、NH4ClEDTA、HNO3为原料，NH4F、NH4Cl和EDTA的引入，有效地实现了刻蚀速率的可控性，并对PZ0.15R0.85、PZ0.3T0.7、PZ0.5T0.5和P1.1Z0.3T0.3四种薄膜进行微图形化研究，分析了刻蚀液对各种成份的刻蚀机理，通过实验，得到了分别刻蚀四种薄膜的刻蚀液的最佳配比，并对四种薄膜的刻蚀速率进行了研究。