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[期刊论文] 作者：辛玉洁,于春崎,,
来源：半导体技术 年份：2008
5次光刻工艺（简称5PEP）是一种新的研究,分为背沟道刻蚀型和背沟道保护型。5PEP改变了TFT结构和原理,相对于常用的7 PEP可缩短生产周期,减少使用设备,提升成品率,降低成本。研究...
[期刊论文] 作者：汪梅林,于春崎,汪永安,,
来源：现代显示 年份：2007
讨论了沟道宽（W）和长（L）对薄膜晶体管的开态电流（Ion），关态电流（Ioff）、开口率以及跳变电压（△Vp）的影响。...
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