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[学位论文] 作者：付银元,,
来源：湖南大学 年份：2013
化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)作为目前唯一能够提供表面全局平坦化的一项新技术,在未来高新技术产业中的作用日益突显,稀土抛光粉则是现今应用最为广泛...
[期刊论文] 作者：周筱桐, 肖汉宁, 刘井雄, 张海峰, 付银元,,
来源：机械工程材料 年份：2014
以稀土硫酸盐为原料,用草酸沉淀法制备了稀土草酸盐,然后在不同工艺下煅烧得到稀土氧化物(即稀土抛光粉);通过热重-差示扫描量热(TG-DSC)仪、XRD、TEM、抛光机等研究了稀土草...
[期刊论文] 作者：付银元,肖汉宁,欧阳唐哲,周筱桐,张海峰,,
来源：硅酸盐通报 年份：2013
为改善CeO2粉体的化学机械抛光（CMP）性能,采用聚乙烯亚胺（PEI）作为分散剂,对CeO2粉体表面进行改性,通过傅立叶红外光谱（FTIR）、透射电镜显微镜（TEM）、Zeta电位仪、激光粒度仪及稳定性......
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