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[期刊论文] 作者：任兆杏,,
来源：科学 年份：1992
电磁发射技术是一项重要的高新技术,具有广泛的军事和民用前景。如何发展这项技术是我国的当务之急。...
[期刊论文] 作者：任兆杏,宁兆元,
来源：原子能科学技术 年份：1984
本文修正了静电离子光学的分析解,这一结果更符合于实验值;给出了平面平行孔电极弯曲形变的模式,然后将修正的分析解与电极弯曲变形联系起来,研究了曲率对小束角散影响的定量...
[期刊论文] 作者：程健,任兆杏,
来源：中国机械工程 年份：1997
提出电磁打桩机，介绍工作原理、技术基础和设计思想。这种打桩机作用可调节、一机多型、同时可以将桩体测试结构到打桩光中去。...
[期刊论文] 作者：宁兆元,任兆杏,
来源：物理学进展 年份：1992
近年来,在低气压、低温等离子体研究和应用中的一个重要发展是微波电子回旋共振放电。由于它是一种无极放电,能够在低气压下产生高密度、高电离度、大体积均匀的等离子体,所...
[期刊论文] 作者：程健,任兆杏,
来源：电工技术 年份：1997
简要介绍了利用电磁力驱动磁舌作往复运动的研究系统，作为电磁驱动主回路的要求及实现方法，最后给出了相应的控制线路。该线路对于类似的工作状态有一定的参考价值。...
[期刊论文] 作者：程健,任兆杏,
来源：光电技术 年份：1991
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[会议论文] 作者：汪建华,任兆杏,
来源：95等离子体与材料表面改性学术讨论会 年份：1995
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[会议论文] 作者：汪建华,任兆杏,
来源：第八届全国电介质物理学术会议 年份：1998
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[会议论文] 作者：张建德,任兆杏,
来源：中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会 年份：1998
对电子回旋共振加热（ECRH）产生晃荡电子形成串级磁镜热垒的物理过程进行Fokker一Planck动力学计算表明，ECRH共振区位置对晃荡电子形成热垒的效果有着至关重要的影响。在一定的装...
[期刊论文] 作者：程健,任兆杏,
来源：光学技术 年份：1996
本文简要地介绍了利用８０３１单片机作为超短脉冲电火花光源控制部分的基本要求及其性能特点，给出了软硬件具体实现方法，对于实用性较强的定时和实时发光延时时间控制作了较为详细的分......
[期刊论文] 作者：孙亚兵,任兆杏,
来源：环境科学研究 年份：1998
非平衡态等离子体的特点在于通过放电产生的电子温度远远高于系统中其他重粒子的温度。根据这一特点研究了非平衡态等离子体对环境污染物的处理技术；分析了非平衡态等离子与环......
[期刊论文] 作者：任兆杏, 丁振峰,,
来源：自然杂志 年份：1996
低温等离子体技术是一门已相对成熟和蓬勃发展着的应用学科,它已在传统和高技术领域得到了广泛的应用,优点与工艺机理复杂是应用中的两个方面,本文分以下几个方面对这一技术...
[期刊论文] 作者：孙亚兵,任兆杏,
来源：环境科学学报 年份：1999
根据低等离子体理论和电磁场理论，在实验的基础上研究了电极旋转条件下低温等离子体的产生机制和臭氧的合成机制，分析了放电过程中二次放电重叠对臭氧合成的影响，建立了旋转放电......
[期刊论文] 作者：丁振峰,任兆杏,
来源：核聚变与等离子体物理 年份：1996
本文采用简晰的平板模型，在局域近似下讨论了热电子，热离子共存时它们对低频交换模的影响，分析了两种热成分电荷裸露效应的相互作用。...
[期刊论文] 作者：任兆杏,陶孟仙,
来源：弹道学报 年份：1997
在分析固体电枢结构和电热特性基础上进行了设计与实验，实验结果表明，在高速时导轨有轻微烧蚀，电驱弧压很低为５０－１００Ｖ，并由于初速不同转捩速度亦不同，...
[期刊论文] 作者：吕庆敖,任兆杏,
来源：真空与低温 年份：1999
介绍了阴极弧斑放电的基本特征。参考前人的研究模型和最新的实验结果，系统地分析了阴极弧斑放电的机理和过程：电子的爆裂发射模型；热场致发射理论；阴极电位降区满足的Ｍａｃｋｅｏｗｎ公式；阴极弧......
[期刊论文] 作者：任兆杏,盛艳亚,
来源：物理 年份：1990
微波电子回旋共振（ＥＣＲ）能够在低气压下产生高密度、高电离度的等离子休．这种等离子体是离子镀最合适的等离子体源，可广泛地应用于等离子体沉积薄膜和表面处理的新工艺，生产高质量的各......
[期刊论文] 作者：丁振峰,任兆杏,
来源：核聚变与等离子体物理 年份：1997
采用高阻抗探针，测量了热电子等离子体的高频扰动，扰动频率与外磁场的关系及爆发区域匠实验观察表明，高频扰动为离子漂移回旋不稳定性。...
[期刊论文] 作者：张颈松,任兆杏,
来源：真空科学与技术 年份：2000
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积技术，在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的ＳｉＯ２薄膜研究了沉积速率与工艺参数之间的，并对身频偏置对成膜特性的影响作了初步实验研......
[期刊论文] 作者：程绍玉,任兆杏,
来源：真空科学与技术 年份：1998
受电子器件芯片铝电极耐温性能的限制和钝化膜沉积避高能粒子对芯片辐射损伤等因素的影响，一般的沉积方法难以用到要求较高的浅结器件的钝化工艺中，微波ＥＣＲ－ＰＣＶＤ技术没有高能粒子对芯片......
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