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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光学精密工程 年份：1998
目前国内外出现的几种离子刻蚀技术－等离子体刻蚀，反应离子束刻蚀，离子束铣，聚焦离子束刻蚀等分别作了详细介绍，并指出今后离子刻蚀技术的发展方向。...
[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机情报 年份：1990
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机情报 年份：1990
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机情报 年份：1992
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机电世界 年份：1993
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[期刊论文] 作者：任延同,
来源：光机情报 年份：1992
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[会议论文] 作者：任延同;,
来源：中国光学会图象测量及CCD应用学术讨论会 年份：1987
建立在CCD成像阵列使用基础上的星跟踪和制导技术，明显地优于常规设计。利用图像内插技术，可以充分利用器件本身的固有精度，而把图像位置测量精度提高到一个象素的１～２个数量级。在......
[期刊论文] 作者：Louri,A,任延同,
来源：光机情报 年份：1991
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[期刊论文] 作者：Lesh,J.R,任延同,
来源：光机情报 年份：1989
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[期刊论文] 作者：Knig.,FK,任延同,
来源：光机情报 年份：1991
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[期刊论文] 作者：Tesse.,J,任延同,
来源：光机情报 年份：1990
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