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[学位论文] 作者：位广彬,,
来源：大连理工大学 年份：2015
随着MEMS技术的快速发展,细胞生物学、水环境污染分析、蛋白质分离等领域对微流控芯片的需求愈加强烈,同时,与金属模具制造技术相关的掩膜电化学刻蚀工艺也受到了密切关注。...
[期刊论文] 作者：杜立群,位广彬,杨彤,陈胜利,,
来源：电加工与模具 年份：2015
采用负胶光刻工艺制备了微坑阵列胶模,通过实验分析了抛光工艺对刻蚀均匀性的影响,解决了微坑阵列刻蚀缺陷的问题。研究了酸洗对基板刻蚀的影响,得出酸洗可改善刻蚀均匀性的...
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