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[会议论文] 作者：刘还平,于红燕,孙春鹏,王凤平,
来源：第八届全国固体薄膜学术会议 年份：2002
用光学方法研究半导体材料的物理性质,有其非常突出的优点.本文研究用偏振光调制方法测试半导体薄膜的光学性质和介电性能....
[期刊论文] 作者：王蕾,王凤平,刘还平,吴平,邱宏,潘礼庆,
来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China 年份：2005
Effects of Cu underlayer on the structure of Fe50 Mn50 films were studied. Samples with a structure of Fe50 Mn50 (200 nm)/Cu(tCu) were prepared by magnetron spu...
[会议论文] 作者：董宜萍;谢海征;肖红玺;徐斌;刘还平;,
来源：2014中国平板显示学术会议 年份：2014
以02+ SF6为刻蚀气体用RIE刻蚀机在180mtorr压力下刻蚀Glass表面PR胶.通过对TFT不同层的PR胶进行灰化刻蚀,研究干法刻蚀设备灰化能力,并通过在线电学特性测试设备EPM曲线对干...
[期刊论文] 作者：王凤平,刘还平,吴平,潘礼庆,邱宏,田跃,罗胜,
来源：发光学报 年份：2003
用磁控溅射方法制备了系列坡莫合金Ni80Fe20薄膜.利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显微镜分析了薄膜的结构、晶粒取向、薄膜厚度、截面结构和表面形态.用4点探测技术测...
[会议论文] 作者：王凤平,刘还平,顾刚,吴平,潘礼庆,邱宏,罗胜,
来源：第八届全国固体薄膜学术会议 年份：2002
本文采用四探针探测技术测量了坡莫合金薄膜的电阻和磁电阻,以探讨在晶体生长中基片温度对坡莫合金薄膜磁电阻的影响....
[期刊论文] 作者：范学丽,靖瑞宽,翁超,陈启省,王晏酩,肖红玺,刘还平,,
来源：液晶与显示 年份：2016
随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)...
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