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[期刊论文] 作者：司马能,
来源：真空电子技术 年份：1995
利用薄膜边缘场发射阴极设计的三极管、阴极、栅极和阳极是平面结构，因此极间电容小，适合应用于高速和高频电路。它在工艺上与半导体器件兼容，工艺比较简单，是真空微电子集成电路......
[会议论文] 作者：陈连元,司马能,
来源：中国电子学会'95首届全国显示技术委员会学术研讨会 年份：1995
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[期刊论文] 作者：雷红,司马能,袁国兴,屠锡富,布乃敬,藏松涛,,
来源：半导体技术 年份：2010
目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低.采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声...
[会议论文] 作者：雷红,雒建斌,潘国顺,屠锡富,方亮,司马能,
来源：第七届全国摩擦学大会 年份：2002
随着计算机磁头与磁盘间间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑.化学机械抛光是目前广泛接受的全局平面化技术.本文研究了镍磷敷镀的硬盘基片在胶体SiO抛光组合物中的抛光试验,Chapman MP2000表面形貌仪测得表面平均粗糙度(Ra)和波纹度(Wa)分别为0.55A及0.90A,为迄......
[会议论文] 作者：雷红[1]雒建斌[1]潘国顺[1]屠锡富[2]方亮[2]司马能[2],
来源：第七届全国摩擦学大会 年份：2002
随着计算机磁头与磁盘间间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑.化学机械抛光是目前广泛接受的全局平面化技术.本文研究了镍磷敷镀的硬盘基片在胶体SiO抛光组合物中的抛光试验,C...
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