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[期刊论文] 作者:商亚峰,, 来源:中国新技术新产品 年份:2018
半导体器件制备过程中,Si O2牺牲氧化层经常作为离子注入的阻挡层,用来避免Si材料本身直接遭受离子轰击而产生缺陷,牺牲氧化层在注入完成之后,氧化层的性质和结构会发生较大...
[期刊论文] 作者:商亚峰,, 来源:科学技术创新 年份:2018
功率半导体器件做为开关使用时,其动态参数对器件的功耗起着决定性的影响。本文通过实验,分析了场效应晶体管MOSFET的Qg参数对器件工作过程中功耗的影响。...
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