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[会议论文] 作者：冯伯儒,张锦,四川大学物理系(中国成都),宗德蓉,蒋世磊,苏平,
来源：第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议 年份：2002
本文简要论述提高光刻分辨率的几种所谓增强光刻技术,如相移掩模技术,离轴照明和光学邻近效应校正的基本原理和相关技术....
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