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[期刊论文] 作者：孙福河,
来源：商情 年份：2010
准确的市场营销战略定位是企业制胜的法宝。煤炭企业的市场营销战略定位,要根据国家宏观经济环境、相关行业环境、企业环境等因素对目标市场进行定位分析,对营销战略进行定位...
[期刊论文] 作者：孙福河,
来源：中国外资 年份：2010
随着我国经济的发展以及金融危机的影响,对我国经济保持平稳较快发展提出了新的课题,转变经济增长方式成为迫在眉急的问题,因此转变经济增长方式关系现代化建设全局....
[学位论文] 作者：孙福河,
来源： 年份：2009
单室技术制备硅薄膜太阳电池是降低其成本的重要方法之一。本文在单室中采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,以降低单室沉积工艺中的界面污染和提高单室沉积微晶硅电池的性能为目标,详细研究了单室沉积中的交叉污染问题、不同处理硼污染的方法及其在微晶硅......
[期刊论文] 作者：孙福河,,
来源：天津人大 年份：2009
红桥区西于庄街道人大工委在区人大常委会和街道党工委的领导下,积极探索代表工作与社区工作相结合的规律,使之相互促进、共同发展,收到了明显的成效....
[期刊论文] 作者：孙福河（主任）,
来源：天津人大 年份：2009
红桥区西于庄街道人大上委在区人大常委会和街道党工委的领导下，积极探索代表工作与社区工作相结合的规律，使之相互促进、共同发展，收到了明显的成效。一、以居委会为依托，密切代......
[期刊论文] 作者：邢台矿,孙福河,
来源：中国外资 年份：2010
随着我国经济的发展以及金融危机的影响，对我国经济保持平稳较快发展提出了新的课题，转变经济增长方式成为迫在眉急的问题，因此转变经济增长方式关系现代化建设全局。...
[期刊论文] 作者：孙福河,张晓丹,赵颖,王世峰,韩晓艳,李贵军,魏长春,孙建,,
来源：半导体学报 年份：2008
在掺杂P室采用甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF—PECVD）技术，制备了不同硅烷浓度条件下的本征微晶硅薄膜．对薄膜电学特性和结构特性的测试结果分析表明：随硅烷浓度的增加，材料......
[期刊论文] 作者：孙福河,张晓丹,赵颖,王世峰,韩晓艳,李贵军,魏长春,孙建,,
来源：半导体学报 年份：2004
在掺杂P室采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,制备了不同硅烷浓度条件下的本征微晶硅薄膜.对薄膜电学特性和结构特性的测试结果分析表明:随硅烷浓度的增加,...
[会议论文] 作者：孙福河;赵颖;张晓丹;许盛之;王光红;岳强;魏长春;孙建;耿新华;熊绍珍;,
来源：第十届中国太阳能光伏会议 年份：2008
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,研究了单室沉积下腔室磷污染的表现特征。由测试结果发现:单室沉积n层后随即沉积p层或者i层微晶硅,残余的磷将降低微晶p...
[期刊论文] 作者：孙福河,张晓丹,王光红,许盛之,岳强,魏长春,孙建,耿新华,熊绍珍,赵颖,,
来源：物理学报 年份：2004
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术制备了不同腔室环境下的微晶硅薄膜.对单室沉积掺杂层p材料后遗留在腔室中的硼对本征微晶i材料电学特性和结构特性的影响...
[会议论文] 作者：许盛之,赵庚申,耿新华,赵颖,张晓丹,孙福河,王光红,岳强,魏长春,孙建,张德坤,胡增鑫,
来源：第十届中国太阳能光伏会议 年份：2008
利用VHF-PECVD(75MHz)技术,采用高氢稀释SiH4、及B2H6掺杂的方法,在玻璃衬底上获得了厚度为50nm,电导率达到9.1S/cm,暗电导激活能小于0.035eV,拉曼晶化率超过40％的p层材料。单室工艺制备微晶硅单结电池中,用同样工艺条件沉积20nm厚的p层,获得了效率达到4.97％的电......
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