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[学位论文] 作者:孙诗壮,, 来源:中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所) 年份:2020
激光等离子体光源收集镜是极紫外光刻光学系统关键元件之一,收集镜多层膜的性能决定了收集镜性能的上限。相比于其他光学元件,收集镜多层膜的沉积有其特殊性。首先,为滤除红...
[期刊论文] 作者:孙诗壮, 赵晋荣, 来源:真空科学与技术学报 年份:2020
静电卡盘是半导体以及光学设备中关键器件之一,主要起到固定衬底快速加热的作用。本研究中搭建了真空腔室平台,并依据气体背吹法,测试了约翰逊-拉别克型静电卡盘对不同电压下不同材料晶圆的吸附力。本文通过对氧化层电学性质及静电卡盘凸点结构的研究,得出静电卡盘......
[期刊论文] 作者:孙诗壮, 赵晋荣, 来源:真空科学与技术学报 年份:2023
静电卡盘是半导体领域中关键器件,主要起到支撑固定晶圆的作用。本研究利用麦克斯韦仿真软件计算了静电卡盘工作时,电极周围电压分布,得到了电极边缘效应小于4%,电极边缘效应对吸附力的影响可以忽略不计的结论;并依据等效电容的方法建立了计算库伦型静电卡盘吸附力的......
[期刊论文] 作者:孙诗壮, 赵晋荣, 王璞, 来源:真空科学与技术学报 年份:2020
真空静电卡盘是半导体工艺中最重要的元件之一,主要应用于集成电路设备和光学设备,起到承载晶圆或衬底的作用。本文利用物理气相沉积的方法制备了J-R型静电卡盘的凸点结构。本研究中搭建了真空腔室,利用了气体背吹法,测试了不同凸点高度、不同吸附电压下约翰逊-拉别......
[期刊论文] 作者:孙诗壮,金春水,喻波,郭涛,姚舜,李春,邓文渊, 来源:光学学报 年份:2020
使用分子动力学方法计算了Mo、Si原子发生反射和再溅射的概率,以及原子的反射、再溅射角度和能量分布。考虑了四种碰撞:Mo原子与Mo基底碰撞、Mo原子与Si基底碰撞、Si原子与Si基底碰撞、Si原子与Mo基底碰撞。模拟发现,当沉积原子传递给基底的能量降低时,发生反射......
[期刊论文] 作者:孙诗壮,金春水,喻波,郭涛,姚舜,李春,邓文渊, 来源:光学学报 年份:2020
Mo/Si多层膜镀膜工艺是极紫外光刻的关键技术之一,为了优化并提升Mo/Si多层膜的镀膜工艺,研究了气压、靶-基底间距这两个工艺参数对Mo/Si多层膜表面粗糙度的影响。根据磁控溅射物理过程,建立了一个原子沉积的物理模型,分析了原子沉积到基底时的入射角度和入射能......
[期刊论文] 作者:邱宏伟,金春水,于杰,刘钰,张海涛,王丽萍,孙诗壮, 来源:中国光学 年份:2021
基于计算全息图(Computer-Generated Hologram,CGH)的非球面检测技术通过控制衍射光相位来生成所需要的参考波前,从而实现非球面的零位检测,近年来,该技术已经发展成为非球面...
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