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[期刊论文] 作者：雷红,雒建斌,屠锡富,方亮,
来源：机械工程学报 年份：2005
随着计算机磁头与磁盘间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑(亚纳米级粗糙度).化学机械抛光技术是迄今几乎唯一的全局平面化技术.研究了抛光液特性与计算机硬盘基片的化学机械...
[期刊论文] 作者：罗建伟,曹天河,张其馨,戴坚,屠锡富,
来源：哈尔滨工业大学学报 年份：1991
本文阐述了在磺纤维复合材料超声波振动钻削过程中对加工质量产生较大影响的加工参数的优化设计过程,其内容包含了优化数学模型的建立过程,优化计算方法,程序设计方法及计算...
[期刊论文] 作者：雷红,司马能,袁国兴,屠锡富,布乃敬,藏松涛,,
来源：半导体技术 年份：2010
目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低.采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声...
[会议论文] 作者：雷红,雒建斌,潘国顺,屠锡富,方亮,司马能,
来源：第七届全国摩擦学大会 年份：2002
随着计算机磁头与磁盘间间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑.化学机械抛光是目前广泛接受的全局平面化技术.本文研究了镍磷敷镀的硬盘基片在胶体SiO抛光组合物中的抛光试验,Chapman MP2000表面形貌仪测得表面平均粗糙度(Ra)和波纹度(Wa)分别为0.55A及0.90A,为迄......
[期刊论文] 作者：雷红,褚于良,屠锡富,丘海能,方亮,罗桂海,,
来源：功能材料 年份：2005
化学机械抛光(CMP)技术广泛用于表面的超精加工,抛光液是CMP技术中的关键要素。本文制备了一种超细Al2O3抛光液,采用激光粒度仪、扫描电镜等对其进行了表征。进而研究了其在...
[期刊论文] 作者：董双阳, 颜志强, 刘祖耀, 冉红锋, 张俭, 屠锡富, 黄勇,,
来源：表面技术 年份：2017
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[期刊论文] 作者：董双阳,颜志强,刘祖耀,冉红锋,张俭,屠锡富,黄勇,杨春光,,
来源：表面技术 年份：2017
目的研究抛光液pH值、温度和浓度对化学机械抛光蓝宝石去除率的影响,以提高抛光效率。方法采用CP4单面抛光试验机对直径为50.8 mm C向蓝宝石晶元进行化学机械抛光,通过电子分...
[会议论文] 作者：雷红[1]雒建斌[1]潘国顺[1]屠锡富[2]方亮[2]司马能[2],
来源：第七届全国摩擦学大会 年份：2002
随着计算机磁头与磁盘间间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑.化学机械抛光是目前广泛接受的全局平面化技术.本文研究了镍磷敷镀的硬盘基片在胶体SiO抛光组合物中的抛光试验,C...
[期刊论文] 作者：张其馨,罗建伟,张广玉,冯友彬,屠锡富,孙世宇,南南,陈键,
来源：制造技术与机床 年份：1994
为碳纤维复合材料的构件的钻孔，研制出一种便携式旋转超声钻，设计了小型化超声振动系统，并对其主要性能进行了试验分析，对于超声波发生器，提出电流反馈式的搜索电流量大值来实现频......
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