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[期刊论文] 作者：曾庆明,冯国进,庞忠智,,
来源：半导体情报 年份：1990
随着器件尺寸朝亚微米规模、超大规模方向发展,常规的湿法腐蚀技术已无法满足要求。这里的器件制作全部采用正性光致抗蚀剂、接触式曝光和反应离子刻蚀制作方法。容易重复获...
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