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[会议论文] 作者：廖家轩;田忠;许江;杨海光;金龙;,
来源：2006全国摩擦学学术会议 年份：2006
用等离子体基离子注入(PBII)技术在单晶硅表面注入C2H2制备碳薄膜.研究了注入电压对碳薄膜结构及摩擦学性能的影响.XPS表明,在3-5kV范围内存在一个注入电压,对应成分及结构渐...
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