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[期刊论文] 作者：弥谦,
来源：科技成果纵横 年份：2004
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[期刊论文] 作者：李斌,弥谦,,
来源：电源世界 年份：2006
开关电源技术是一项综合性技术，其电磁干扰问题及与其他电子设备的电磁兼容问题已成为人们关注的热点。本文对开关电源电磁干扰的产生、传播机理进行了简要介绍，并从电路结构、......
[期刊论文] 作者：高明,弥谦,
来源：应用光学 年份：1997
运用光切法和相衬法对透明材料表面粗糙度进行测量。...
[期刊论文] 作者：武月月, 弥谦,,
来源：电脑知识与技术 年份：2017
基于光的衍射理论和Matlab强大的计算、绘图能力,对光学中衍射现象进行理论解析;计算出衍射的光强公式;编写出衍射的模拟程序,并对写出的程序进行Matlab仿真;得到光强分布曲...
[期刊论文] 作者：弥谦, 赵磊,,
来源：应用光学 年份：2014
光学薄膜的光学特性与其每一膜层的厚度密切相关,为了制备出符合要求的光学薄膜产品,在制备过程中必须监控膜厚。光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度。针...
[期刊论文] 作者：弥谦,刘哲,,
来源：西安工业大学学报 年份：2012
为了探索电弧源离子镀技术制备的氧化钛薄膜的透射率、消光系数和折射率,利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃基底上制备了氧化钛薄膜,通过分光光度计和椭偏仪对薄膜的透射率、折射...
[期刊论文] 作者：弥谦,冯晓,
来源：西安工业大学学报 年份：2013
为了探索电弧离子镀技术制备银薄膜中相关的工艺参数，利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃和硅片上制备了银膜，通过白光干涉仪和剥离实验对所制备银膜的厚度、表面粗糙度和附着力进行......
[期刊论文] 作者：韩军,弥谦,
来源：应用光学 年份：1999
针对南光ＺＺＳ７００－１／Ｇ箱式真空镀膜机电子枪扫描系统的缺陷，提出一种实用的改进装置，克服了被镀材料蒸发特性不同带来的膜厚误差，提高了膜层质量。...
[期刊论文] 作者：弥谦,蔡长龙,
来源：应用光学 年份：2003
类金刚石薄膜(DLC膜)的成份(主要指sp3键和sp2键)是影响薄膜性能如薄膜的机械特性和电阻特性等的重要因素.因此,研究DLC膜的成份是非常必要的.本文介绍用X射线光电子能谱仪(X...
[期刊论文] 作者：武月月,弥谦,
来源：西安工业大学学报 年份：2018
为了实现光学材料参数高精度测量与初步检测材料快速进行.基于对椭偏法测量光学材料折射率的原理,对实验仪器的选取和实验过程进行设计,得出实验数据,对实验中的光强强度变化...
[期刊论文] 作者：樊超, 弥谦,
来源：纺织高校基础科学学报 年份：2005
脉冲电弧离子镀膜技术是近几十年来新发展的一种镀膜方法,有着广阔的应用前景.然而,在镀膜过程中,出现的拉弧和停弧现象严重影响了脉冲放电的稳定性,进而影响了膜层质量和镀...
[期刊论文] 作者：潘婷,弥谦,,
来源：科技创新导报 年份：2011
磁约束原理目前主要应用于热核聚变中,本文介绍了磁约束原理及依据磁约束原理设计的磁控溅射装置,同时利用ANSYS11.0有限元分析软件对磁约束磁控溅射装置的磁场进行模拟计算,...
[期刊论文] 作者：弥谦,强西林,
来源：应用光学 年份：1998
采用光电转换技术，利用单片机对石油钢板长度实现在线测量，通过微型打印机输出与生产有关的汉字信息。The use of photoelectric conversion technology, the use of single-...
[期刊论文] 作者：高原,弥谦,李强,
来源：西安工业大学学报 年份：2021
针对DLC薄膜内应力大,膜基结合强度较差的问题。本文通过磁过滤真空阴极电弧设备,沉积不同偏压下的单层DLC薄膜,并以此为基础控制沉积多层DLC薄膜时各个阶段的偏压,镀制不同调制比下三层结构的DLC薄膜,最终使用纳米压痕划痕仪测试薄膜硬度、弹性模量和膜基结合......
[会议论文] 作者：秦琳,弥谦,
来源：第十七届全国光学测试学术交流会 年份：2018
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[期刊论文] 作者：员康,弥谦,,
来源：光学与光电技术 年份：2020
在纤端光强为高斯分布且发送光束在反射面发生镜面反射及漫反射的前提下,通过理论分析建立了反射式强度调制光纤传感器的光强调制特性函数模型,运用Matlab仿真分析了反射面粗糙度改变及光纤自身参量对光强调制特性函数曲线的影响。研究了反射面为光滑镜面和完全......
[期刊论文] 作者：孙国斌, 弥谦,,
来源：西安工业大学学报 年份：2010
为降低或消除扫描光束光强变化对反射率测试影响,利用光学扫描振镜提供扫描光路.对扫描光路几何关系进行理论推导得出扫描角度与振镜转角及初始入射角的函数关系,利用Matlab...
[期刊论文] 作者：弥谦, 李鲜娟,,
来源：国外电子测量技术 年份：2015
通过大量数据分析电磁场对等离子体源性能的影响,采用ANSYS有限元分析软件对等离子体源的静态电磁场进行模拟分析,应用SIMION静电透镜模拟软件对等离子体源进行粒子运动轨迹...
[期刊论文] 作者：弥谦,杭凌侠,
来源：西安工业学院学报 年份：1997
介绍了一种应用于脉冲多弧离子源镀膜过程的电子监控装置。用该装置定量检测冲多弧离子源的引弧效率，克服因停弧带来的膜厚误差的缺点，本文主要叙述了该装置的工作原理及关电路......
[期刊论文] 作者：弥谦,苏朝辉,
来源：西安工业大学学报 年份：2015
为了清除电弧离子镀接触式引弧容易造成引弧针与靶材粘连的问题，文中采用新式的引弧针非接触式高压脉冲引弧方式优化了阴极靶材的起弧结构．论述了控制电路的实现方案，进行了绝缘......
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