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[学位论文] 作者:徐俊中,
来源:中国科学技术大学 年份:2002
衍射光学元件(DOE:DiffractiveOpticalElements),特别是具有连续分布浮雕结构的位相元件,可以实现很多传统光学元件无法完成的功能,是上个世纪后期开始发展起来后类重要光学元件...
[期刊论文] 作者:徐俊中,王炜,李永平,
来源:量子电子学报 年份:2001
本文首先介绍了一种独特的矢量衍射方法。针对传播波在频域的范围过大的难点,通过引入“有效频域孔径”的概念,成功的将这种方法应用到大口径光束变换系统中。最后利用这种方法......
[期刊论文] 作者:徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,
来源:中国科学技术大学学报 年份:2001
论文通过理论分析探讨了用于均匀照明问题的纯位相元件的通用性问题,揭示了纯位相元件的设计与实际应用系统各类参数指标的依赖关系.并且还研究了刻蚀工艺中的正负片问题,它...
[期刊论文] 作者:赵逸琼,王炜,徐俊中,李永平,,
来源:激光与光电子学进展 年份:2001
惯性约束核聚变(ICF)中的均匀照明和极窄焦斑问题一直以来都是实验成败的关键,也是研究中的活跃课题.为了既保证所需光束质量,又在现有装置上提高靶场研究所需功率,一种对多...
[会议论文] 作者:赵逸琼,王炜,徐俊中,李永平,
来源:第十五届全国激光学术会议 年份:2001
采用几何光学与二元光学位相调制相结合的基本思想,将四束不同倾角的入射光通过楔形列阵准直平行,然后分别经过位相片进行波面变换,最后由主透镜会聚在靶场叠加产生窄焦斑、...
[期刊论文] 作者:王炜,徐俊中,李永平,李涛,傅绍军,
来源:光电工程 年份:2000
详细地介绍了用于分频的闪耀光栅设计方法 ;推导了影响元件性能的衍射效率公式 ;并研究了纵横向工艺误差对其衍射行为的影响。模拟结果显示在 8%和 5%纵横向相对误差范围内 ,...
[期刊论文] 作者:李涛,付绍军,王炜,徐俊中,李永平,
来源:计算物理 年份:2004
介绍一种综合迭代法和优化算法两者优势的混合算法,并用于设计ICF靶场照明衍射光学元件,得出比先前方法更加理想的模拟结果.其衍射效率达到97 5%,均方误差为0.026,并且顶部极...
[期刊论文] 作者:伍源,徐俊中,王炜,付绍军,李永平,,
来源:激光与光电子学进展 年份:2001
我国的“神光Ⅱ”装置为避免输出光束自身类似于自聚焦效应的独特光学特性对激光工作物质的破坏,采用了类环形光束输出.对于类环形光束的均匀化整形问题,我们利用自洽叠代与...
[会议论文] 作者:伍源,傅绍军,徐俊中,王炜,李永平,
来源:第十五届全国激光学术会议 年份:2001
介绍了用于“神光Ⅱ”装置类环形光束输出整形的纯位相元件的设计方法,研究了该元件对于实际系统中非理想波面及位相随机畸变的宽容度等问题,并且计算了不同条件下的光束质量...
[期刊论文] 作者:伍源,徐俊中,王炜,傅绍军,李永平,
来源:中国激光 年份:2002
介绍了用于“神光II"装置类环形光束输出整形的纯位相元件的设计方法,研究了该元件对于实际系统中非理想波面及位相随机畸变的宽容度等问题, 并且计算了不同条件下的光束质量。...
[期刊论文] 作者:徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,徐向东,傅绍军,
来源:光学技术 年份:2004
提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法--离子束平动刻蚀工艺.分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的...
[期刊论文] 作者:徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,徐向东,周洪军,洪义麟,李涛,,
来源:光电工程 年份:2001
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件.对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算...
[期刊论文] 作者:徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,徐向东,周洪军,洪义麟,李涛,傅绍军,
来源:光电工程 年份:2001
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计...
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