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[期刊论文] 作者：李自力,徐兴冉,湛江浩,胡晓华,张子英,熊诗圣,
来源：应用化学 年份：2022
随着半导体产业的技术发展与进步，芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进。与此同时，我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求。本文从光刻材料的成分和性能出发，介绍了光刻图形化技术所用的从紫外光刻胶、深紫外光刻......
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