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[学位论文] 作者：方雪冰,,
来源： 年份：2010
磁控溅射镀膜是当前主要的薄膜沉积方式之一,被广泛应用在微电子、光学薄膜和材料表面处理领域中。特别是在大面积镀膜方面更具明显的优势。生产过程中比较关注溅射镀膜时的...
[期刊论文] 作者：方雪冰,
来源：家庭生活指南 年份：2021
目的：观察损伤控制性复苏方案配合等比例成分输血治疗多发伤并发创伤性凝血病疗效。方法：选取 2019 年 12月 -2020 年 11 月来我院治疗的 90 例多发伤并发创伤性凝血病(ATC) 患...
[期刊论文] 作者：方雪冰,刘宗贺,
来源：中国材料科技与设备 年份：2006
本文主要介绍了两种不同的结构和蒸发源的蒸金镀膜的方法以他们在现代半导体工业中的应用及带来的经济效果。...
[期刊论文] 作者：武大柱,方雪冰,侯海峰,,
来源：价值工程 年份：2011
为满足生产和科研的需要,达到以低成本加工出高精度产品的要求,我们在某些方面对LZM-6B型行星式单臂研磨抛光机进行了改造。结果表明,在各种研磨工艺参数相同时,对于工件加工...
[期刊论文] 作者：刘宗贺,方雪冰,刘波,凌味未,,
来源：实验科学与技术 年份：2006
讨论了采用直流磁控溅射法在锆合金表面镀铬时,基体的粗糙度、退火工艺、薄膜厚度及溅射前的基体离子轰击对铬薄膜附着性的影响。以自动划痕测试仪测试样品的膜/基结合力,结...
[期刊论文] 作者：方雪冰,侯海峰,刘宗贺,易锦程,
来源：中国材料科技与设备 年份：2011
本文分析了MARK50型蒸发台常见的高压、发射电流和电子柬斑故障现象，并从维修的经验方面进行分析，给出了每种现象的检查和维修方法。...
[期刊论文] 作者：刘宗贺,方雪冰,王泗禹,李杰,刘玮,,
来源：硅谷 年份：2011
从VDMOS器件EAS测试的原理出发,通过统计实际生产中出现的EAS不良现象,得出EAS测试不良的两种主要现象,一种为EAS测试后器件烧毁,显示PRE-SHORT损坏提示,第二种为EAS测试不通...
[期刊论文] 作者：方雪冰,武大柱,刘宗贺,侯海峰,陶利勇,,
来源：价值工程 年份：2011
本文通过介绍CTI 400冷凝泵工作原理,常见的故障与产生这些故障可能存在的原因,为解决这些常见问题提供了理论指导。...
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