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[学位论文] 作者：朱家铎,,
来源：西安电子科技大学 年份：2018
随着摩尔定律的持续发展,集成电路工艺尺度不断缩小,当前已经发展到10nm制程,进一步推进工艺实现亚10 nm的集成电路已经成为工业界的共识。然而传统三维块体材料在如此小的尺...
[期刊论文] 作者：赵颖,许晟瑞,林志宇,张进成,姜腾,付梦笛,朱家铎,陆琴,郝跃,,
来源：Chinese Physics Letters 年份：2016
C-implantation N-polar GaN films are grown on c-plane sapphire substrates by metal organic chemical vapor deposition.C-implantation induces a large number of de...
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