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[学位论文] 作者：朱效立,,
来源：北京工业大学 年份：2005
本文研究了紫外光子和高分子材料相互作用的机理和准分子激光刻蚀聚合物材料的物理化学模型,用拉曼谱、XPS 谱、SEM 和三维形貌分析仪等测试手段研究了准分子激光刻蚀PMMA 和...
[学位论文] 作者：朱效立,
来源：中国科学院微电子研究所 年份：2008
高线密度X射线透射光栅是X射线光栅谱仪的核心色散元件，其制作工艺繁复冗长，制作难度大，是制约我国等离子体诊断和太空探测等领域发展的核心光学元件。本文针对X射线透射光栅在X......
[期刊论文] 作者：高南,朱效立,李海亮,谢常青,,
来源：核技术 年份：2010
本文将电子束曝光和X射线曝光技术相结合以制造X射线波段螺旋波带片。用电子束曝光和微电镀技术在镂空薄膜上制备母波带片X射线掩模版,用X射线曝光和微电镀技术小批量复制螺...
[期刊论文] 作者：张庆钊,谢常青,刘明,李兵,朱效立,,
来源：微细加工技术 年份：2007
用Cl2,HBr,O2和CF4为反应气体,对多晶硅栅进行了刻蚀试验,并借助X射线能谱仪器Energy Dispersive X-ray Spectrometry(EDS)进行试验样品的化学成分测定和数据分析.结果表明,...
[期刊论文] 作者：张庆钊,谢长青,刘明,李兵,朱效立,,
来源：半导体学报 年份：2007
通过实验对适用于90nm多晶硅栅刻蚀工艺中过刻蚀阶段等离子体的性质进行了研究分析.实验采用满足200mm硅晶片刻蚀的电感耦合多晶硅刻蚀设备，借助等离子体分析仪器（朗缪尔探针）进......
[期刊论文] 作者：靳飞飞,刘世炳,朱效立,谢常青,刘明,,
来源：光电工程 年份：2009
利用变栅距光栅的衍射光束自聚焦特性，设计和制作了变栅距透射光栅，并对其自聚焦特性进行了研究。采用变栅距光栅的自动生成宏文件程序，优化设计了变栅距光栅的栅距变化。采用光......
[期刊论文] 作者：赵珉,陈宝钦,刘明,谢常青,朱效立,,
来源：微细加工技术 年份：2008
作为一种非化学放大的无机负性电子束光刻抗蚀剂，HSQ（hydrogen silsesquioxane）具有极高的分辨率（约5nm），由于灵敏度较低，限制了其在微纳米加工方面的应用。从化学结构变化的角度分......
[期刊论文] 作者：何佩谣,赵越,刘宇,王波,朱效立,
来源：核技术 年份：2021
相变材料Ge2Sb2Te5由于其独特的光学和电学性质,在光学记录、数据存储等方面具有广泛的应用.在航空航天、安检扫描等一些特定环境中,X射线辐照会使得相变材料发生结构和性能...
[期刊论文] 作者：张文海, 曹磊峰, 朱效立, 谢常青, 刘慎业,,
来源：强激光与粒子束 年份：2012
高线密度x光透射光栅是各种高分辨光栅摄谱仪的核心色散元件，为了获得较高的光谱分辨率，工作在2～5keY能区的光谱仪需要使用5000l／mm的x射线透射光栅。为了获得光栅的绝对衍射效率......
[期刊论文] 作者：易涛, 董建军, 朱效立, 杨国洪, 刘慎业,,
来源：光学学报 年份：2010
研究了螺旋型波带片的成像特性。螺旋型波带片是一种新型成像元件,能够实现光学希尔伯特变换,获取边缘增强图像。采用快速傅里叶变换算法对螺旋型波带片的成像进行了数值模拟...
[期刊论文] 作者：裴宪梓,梁永浩,王菲,朱效立,谢常青,
来源：光子学报 年份：2019
为降低干涉带来的影响,将一种随机位相分布引入菲涅耳透镜阵列,对阵列中每一个菲涅耳透镜施加0或π的二值化位相变化,打乱阵列位相的周期性排布,减少微透镜后多光束在匀化面...
[会议论文] 作者：朱效立,王伟,刘世炳,陈涛,左铁钏,
来源：中国光学学会2004年学术大会 年份：2004
本文从聚合物材料和激光光子的基本作用原理出发，研究了KrF 准分子激光加工聚合物材料例如PMMA的作用机理，定性地解释了准分子激光刻蚀PMMA 的两种机理：化学光解和热解聚以及它......
[期刊论文] 作者：李亚文,陈军宁,贾佳,朱效立,吴璇,谢常青,,
来源：光电工程 年份：2009
对光子筛的结构进行了优化设计，通过实验研究了光子筛对355nm激光的聚焦特性，并与传统的聚焦元件波带片进行了比较。首先，使用自行编写的光子筛自动生成宏文件程序，优化设计了光......
[期刊论文] 作者：宋曦,朱效立,韦飞,谢常青,谢二庆,刘明,
来源：光电工程 年份：2010
为了实现极紫外透射光栅光谱仪在近地空间的应用,针对其核心色散元件2000线/毫米X/EUV透射光栅,本文采用有限元方法建立了机械模型并对其热学性能和耦合特性进行计算机模拟计...
[期刊论文] 作者：张庆钊,谢常青,刘明,李兵,朱效立,马杰,,
来源：微细加工技术 年份：2007
进入90 nm工艺节点以后,在等离子体干法刻蚀工艺中出现了越来越多需要解决的技术性问题,带有图形的晶片(相对于白片而言)上的膜层结构设计和刻蚀工艺参数的优化技术变得越来...
[期刊论文] 作者：赵珉,陈宝钦,刘明,任黎明,谢常青,朱效立,安南,,
来源：纳米技术与精密工程 年份：2009
为了满足电子束光刻（EBL）对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光...
[期刊论文] 作者：姜骥,付强,朱效立,刘兴华,徐熙平,谢常青,刘明,,
来源：光子学报 年份：2008
对光子筛的聚焦成像原理作了分析，并用平面波角谱方法对光子筛聚焦成像进行了数值模拟．模拟结果表明，光子筛聚焦具有提高分辨率和抑制高级衍射的优点．在理论分析和计算机模拟的基......
[期刊论文] 作者：张庆钊,谢常青,刘明,李兵,朱效立,陈宝钦,,
来源：半导体学报 年份：2008
对于上下电极双射频源的电感耦合（ICP）等离子体刻蚀设备的关键工艺参数——下电极射频偏压的变化特性进行了实验与物理定性分析．实验以氧气作为反应气体，采用可满足300mm硅晶片刻......
[期刊论文] 作者：李海亮,吴坚,朱效立,谢常青,刘明,曹磊峰,,
来源：光学学报 年份：2009
在满足工艺要求的前提下,通过模拟光栅衍射,设计出镂空透射光栅模型,在此基础上将电子束和X射线光刻技术相结合,研究了制造2000l/mmX射线镂空透射光栅的新工艺技术。首先利用...
[期刊论文] 作者：靳飞飞,朱效立,李海亮,马杰,谢常青,刘世炳,,
来源：光学学报 年份：2010
针对X射线透射光栅摄谱仪中对高线密度聚焦变栅距光栅的需要,利用电子束光刻技术,研制了X射线透射变栅距光栅。利用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的...
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