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[期刊论文] 作者：肖亮,张勋泽,朴祥秀,,
来源：液晶与显示 年份：2017
在TFT Array制程中,使用刚刚更换过清洗品的载盘生产纯铝薄膜时,基板周边常常会出现小丘,小丘的生成将严重影响产品的电学性能和良率。本文通过生产线上常用的阵列宏微观缺陷...
[期刊论文] 作者：刘飞,朱昊,张勋泽,朴祥秀,
来源：电子元件与材料 年份：2018
实验通过控制镀膜温度、功率、压力和时间的工艺条件,采用磁控溅射法在玻璃基板表面沉积纳米Cu膜,利用XRD、SEM和四探针测试议测试分析研究了其晶体结构、形貌结构和电阻率。...
[期刊论文] 作者：王效坤, 朴祥秀, 孟雷, 房伟华, 刘飞,,
来源：液晶与显示 年份：2019
为改善在实际生产中,p-ITO在膜厚较薄时所表现出的多种不良,如退火后膜质存在花斑不良、膜层易被刻蚀液腐蚀等,进行退火对p-ITO薄膜特性影响的研究。本实验利用磁控溅射法在...
[期刊论文] 作者：刘飞, 张浩, 朱昊, 房伟华, 王效坤, 孟雷, 朴祥秀,,
来源：科技经济导刊 年份：2004
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[期刊论文] 作者：王效坤,房伟华,刘飞,郭如旺,朴祥秀,刘祖宏,
来源：电子世界 年份：2021
ADS产品SD制程时产生的膜层黑点不良,影响产品良率。本文研究了膜层黑点不良的形成机理和影响因素,结果表明:膜层黑点不良是膜层沉积时,底部膜层水气释放导致的膜层鼓包;SD层...
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