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[期刊论文] 作者：杨程辉,,
来源：青年时代 年份：2016
班级作为中职学校教育教学的基本单位,德育工作的优劣对学生知识技能的学习和个人的成长都起着至关重要的作用.本文论述了职教班级德育工作的功能,并结合中职具体教育教学实...
[期刊论文] 作者：杨程辉,
来源：教育学 年份：2015
一、“磁化”是前提 所谓“磁化”，就是增加教学的吸引力。罗伯特·特拉费斯说过：“教学是一种独具特色的表演艺术，它区别于其它的表演艺术，这是由于教师与那些观看表演的人的关系所决定的。”体育课表演的技巧性、和谐性和美感愉悦性的特点，就是教师内在的人格显......
[学位论文] 作者：杨程辉,
来源：河北工业大学 年份：2023
化学机械抛光（CMP）是集成电路制造中实现晶圆局部和全局平坦化的最有效方法。随着集成电路技术节点的持续降低,铜互连的层数越来越多,对每一层平坦化的要求越来越高。抛光液作为CMP工艺中最重要的耗材之一,其性能的优劣直接决定晶圆的抛光效果和良品率。高低差的......
[期刊论文] 作者：梅杨,程辉,
来源：科技创新导报 年份：2009
文章提出了一种基于FPGA可壕程单片表统谐波分析仪的设计系统。该方案能提高谐波分析的精度以及响应速度，同时大大地精简了硬件电路，系统升级非常方便。并给出了主要的设计系统......
[期刊论文] 作者：王天云,杨程辉,
来源：生物学教学 年份：2001
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[期刊论文] 作者：杨程辉, 杨太华,,
来源：能源与环境 年份：2019
在新时代背景下,中国经济发展进入新阶段,全社会用电量与GDP增速之间的关系出现了新变化,在部分年份2者差异尤为严重。以上海市为例,基于2001~2016年的统计资料,利用Eviews软...
[期刊论文] 作者：陈凯荣,杨程辉,
来源：中国改革：农村版 年份：2004
在每一个城市里，都有一群特殊的群体．他们不分老小．整天与垃圾为伍，他们几乎每人带一条编织袋或麻袋．游荡于大街小巷，城里人戏称这些熟悉而又陌生的群体为拾荒一族。...
[期刊论文] 作者：周佳凯,牛新环,杨程辉,王治,崔雅琪,
来源：电子元件与材料 年份：2020
在集成电路制造中,双大马士革技术已经被广泛应用于铜互连工艺中,其中采用了化学机械抛光(CMP)技术去除在布线时电镀阶段形成的多余铜,为下面的多层金属化结构提供一个平坦的...
[期刊论文] 作者：霍兆晴,牛新环,刘玉岭,杨程辉,卢亚楠,
来源：电子元件与材料 年份：2021
为了提高阻挡层化学机械抛光(CMP)的去除速率选择比,提出一种添加剂二乙烯三胺五乙酸五钾(DTPA-5K),研究它在含双氧水(H2O2)的抛光液中对材料去除速率的影响,并通过X射线光电...
[期刊论文] 作者：冯子璇,崔浩祥,杨程辉,孙晓琴,牛新环,
来源：半导体技术 年份：2022
钴(Co)的化学机械抛光(CMP)要求有较高的去除速率(大于100 nm/min)和洁净平整的表面.采用新型弱碱性抛光液,研究不同成分(如过氧化氢(H2O2)、1,2,4-三氮唑(TAZ)、异辛醇聚氧乙烯醚(JFCE))对Co CMP性能的影响.结果 表明,抛光液中H2O2体积分数为0.4％、pH值为8、甘......
[期刊论文] 作者：杨程辉,牛新环,周佳凯,王建超,霍兆晴,卢亚楠,
来源：电镀与涂饰 年份：2020
为了有效提高集成电路铜布线层铜膜在化学机械抛光(CMP)过程中的台阶高度修正能力,在由胶体二氧化硅(平均粒径为100 nm)0.5%(质量分数)、甘氨酸2%(质量分数)和FAOA非离子表面...
[期刊论文] 作者：张银婵,牛新环,周佳凯,杨程辉,冯子璇,常津睿,侯子阳,朱烨博,
来源：应用化工 年份：2021
首先介绍了甘氨酸的基本性质,接着回顾了近年来国内外甘氨酸在集成电路多层布线及其它材料CMP中的不同应用,归纳总结表明甘氨酸在CMP过程中可以起到络合、缓蚀、控制电偶腐蚀、催化等多种作用,具有宽泛的应用领域,最后对氨基酸类的添加剂在CMP中的应用前景进行......
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