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[期刊论文] 作者:张银桥,蔡建九,张双翔,张永,林志园,王向武,陈开建,,
来源:固体电子学研究与进展 年份:2010
采用组分跳变和低温大失配缓冲层技术在GaAs衬底上外延了In0.3Ga0.7As材料。测试结果表明,采用组分跳变缓冲层生长的In0.3Ga0.7As主要依靠逐层间产生失配位错来释放应力,并导...
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