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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：电子产品世界 年份：1999
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：半导体情报 年份：2001
以应 0 .5 μm技术之需而设的一套超纯水精处理系统为实例 ,介绍了其工艺流程及特点 ,给出各项水质参数的实测数据 ,进而评述≤ 0 .2 5 μm/ 8英寸线的水质评价项目及其限定...
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微纳电子技术 年份：2002
阐述美国《国家半导体技术发展路线》中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求,以我国8英寸/0.18μm和12英寸生产线的相关数据与其对照,表明在总有机...
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子技术 年份：1999
本文依据深亚微米技术的要求，结合实例，扼要介绍这种世界的超纯水装置。讨论了TOC／DO或WC／Si低于1PPb和用水点无微粒的技术以及费用等项热点问题。...
[期刊论文] 作者：林耀泽,,
来源：洁净与空调技术 年份：2008
基于现代超纯水系统的若干实践,浅析现今超纯水水质的难点(TOC、SiO2、微粒的达标),述评300mm线水质要求上的现实性。...
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：低温与特气 年份：1984
半导体、集成电路是项更新换代十分迅速的产业。在六十年代中，电路的集成度每年翻一番，七十年代，平均每三年增加四倍。进入八十年代后，仍将以每二年翻一番的速度增加。伴随这种发......
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：电子材料（机电部） 年份：1995
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：洁净与空调技术 年份：2000
以我国深亚微米水平的超纯水系统的实践经验为基础，以３００ｍｍ芯片厂和深深亚微米加工技术的需要为对象，推测其水质、水量的要求和费用能力，评述若干制水关键技术的现状，展望其发展。......
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子技术 年份：1993
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：江南半导体通讯 年份：1992
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子技术 年份：1994
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子技术 年份：1995
本文以统计性的数据为依据，阐述了超纯水水质对器件的影响，列出亚微米ＣＭＯＳ线上的水质检测。围绕现代超纯水水质参数中总有机碳这一中心环节，讨论了降低该值的关键和相关问题换解决要......
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子技术 年份：1996
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：LSI制造与测试 年份：1994
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[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：半导体技术 年份：2001
应小于等于0.25μm8英寸fab之需,介绍了实际工程的各项优越水质参数和高可靠、易运作等特点.讨论了水的回收技术、总有机碳(TOC)减低技术和安装/配管中的零污染的可能性....
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：江南半导体通讯 年份：1991
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[会议论文] 作者：林耀泽,
来源：第五届中国国际集成电路博览会暨高峰论坛 年份：2007
基于现代超纯水系统的若干实践，浅析现今超纯水水质的难点(TOC、SiO2、微粒的达标)，评论12英寸线水质要求上的现实性。...
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子学 年份：2004
一、引言 集成电路,尤其是大规模集成电路(LSI)这项综合性技术的发展,离不开高纯气体。去年二个接我所4KRAM产品的工厂,其管芯成品率接近和超过我所(20％),另外我们在引进生产...
[期刊论文] 作者：林耀泽,
来源：微电子学 年份：2004
一 引言 在半导体分立器件基础上发展起来的集成电路,经历了小规模、中规模和大规模集成电路(以下简称LSI)之后,现正进入超大规模集成电路(VLSI)阶段。集成电路愈是发展,对...
[期刊论文] 作者：林耀泽,王铁坤,
来源：LSI制造与测试 年份：1990
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