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[学位论文] 作者：梁斐珂,
来源： 年份：2018
高功率脉冲磁控溅射(high power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)具有尖峰功率密度高、靶材离化率高、所制薄膜致密等优点。但该方法存在沉积速率低、放电过程易打弧等缺点。针对HiPIMS的缺点,本文采用中频(middle frequency,MF)与HiPIMS相叠加(superimpo......
[会议论文] 作者：梁斐珂,曾宪光,孙德恩,
来源：第五届环渤海表面精饰发展论坛 年份：2018
为了提高装饰性硬质膜的综合性能,达到良好的装饰性和使用效果,本文对镀膜过程中偏压对膜发蒙现象和膜厚分布以及Cu 掺杂对类金刚石膜(a-C：Cu)性能影响进行了系列研究.研究结果表明,随着偏压增加,试样边缘发蒙现象越严重,而且试样边缘薄膜越薄甚至损伤基体.随着C......
[期刊论文] 作者：肖晓华,卢杰,梁斐珂,黄本生,,
来源：金属热处理 年份：2015
采用手工电弧焊对X80管线钢进行焊接,对焊接接头进行不同温度的焊后深冷处理,通过金相分析、硬度测试、拉伸试验、冲击试验等研究深冷处理对X80管线钢焊接接头组织及力学性能...
[期刊论文] 作者：邵涛,孙德恩,梁斐珂,黄佳木,,
来源：中国表面工程 年份：2017
为研究离子源循环轰击对薄膜结构和电学性能的影响,通过离子源轰击辅助直流磁控溅射在200℃下沉积不同循环周期Ti N薄膜,采用场发射扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪表征...
[会议论文] 作者：梁斐珂,孙德恩,李志伟,Wahyu Diyatmika,
来源：2018中国(重庆)国际表面工程论坛暨重庆第十四届表面工程技术论坛 年份：2018
高功率脉冲磁控溅射(High Power Impulse Magnetron Sputtering,HiPIMS)具有尖峰功率密度高,靶材离化率高,所制薄膜致密等优点,越来越受到研究人员的重视.本文通过HiPIMS复合RF磁控溅镀系统制备CrSiN薄膜,HiPIMS电源溅射Cr靶,射频电源溅射Si靶,改变射频功率得到......
[期刊论文] 作者：肖晓华,梁斐珂,邓龙,丁煜瀚,黄本生,梁建,,
来源：材料导报 年份：2016
通过显微组织分析、硬度测试、拉伸试验、冲击试验、腐蚀试验,利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和X射线衍射(XRD)等实验手段,研究了焊条电弧焊(SMAW)不同焊接电流对X80...
[期刊论文] 作者：梁斐珂,孙德恩,陈思琦,黄佳木,裴晨蕊,,
来源：中国表面工程 年份：2016
为了研究不同结构铬掺杂碳基薄膜在高温下与铝合金的磨损机理,采用非平衡磁控溅射在YT15刀具表面沉积Cr/CrC/DLC单周期和Cr/（CrC-DLC）_n多周期多层膜,在24、200和400℃下与A319...
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