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[会议论文] 作者：汤启云[1]马余强[2],
来源：中国化学会第28届学术年会 年份：2012
在现代半导体工业中，由于光波长限制，传统光刻蚀技术在器件设计上逐渐达到其尺寸极限.近年来共聚物刻蚀法正成为一种克服传统刻蚀技术尺寸极限的简单且成本低廉的方法.2008......
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