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[学位论文] 作者：潘意杰,,
来源：浙江大学 年份：2008
集成电路设计发展到超深亚微米,其特征尺寸越来越小,并趋近于曝光系统的理论极限,光刻后硅片表面成像将产生严重的畸变,即产生光学邻近效应(Optical Proximity Effect,OPE)。...
[期刊论文] 作者：潘意杰,陈晔,,
来源：机电工程 年份：2008
作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一，双重图形技术（DPT）面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用，其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析......
[期刊论文] 作者：马俊鹏, 潘意杰,,
来源：现代经济信息 年份：2004
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技...
[期刊论文] 作者：龚迪军,黄晁,潘意杰,,
来源：数字化用户 年份：2018
本文创新性地提出一种DRM/DRM+数字广播专用接收芯片的Viterbi解码器设计方法,采用改进4-ACS并行流水线处理与主控制器异步串行控制结合的架构,并且整个Viterbi解码器设计采...
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