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[学位论文] 作者:牛新环,, 来源: 年份:2014
前言局部麻醉药是临床广泛应用的麻醉药物,使用局部麻醉药进行神经阻滞对于手术中或手术后疼痛的控制具有重要作用。与全身麻醉和静脉使用阿片类镇痛药物相比,神经阻滞麻醉对...
[学位论文] 作者:牛新环,, 来源:河北工业大学 年份:2004
本论文利用二次离子质谱(SIMS)、化学分析法(电感耦合等离子体(ICP)直读光谱仪)、扫描电镜能谱仪(SEM-EDX)三种方法对不同掺锗浓度的CZSiGe单晶中锗含量进行了测试,并对变速拉晶条件下......
[期刊论文] 作者:牛新环, 田玉科,, 来源:临床麻醉学杂志 年份:2003
血液稀释是术中常用的减少自体血丧失和异体血输注的方法,但血液稀释会引起血液动力学、血液成分和机体内环境的变化,从而对麻醉中所用药物的代谢动力学和效应动力学产生复杂...
[期刊论文] 作者:韩玉文,牛新环, 来源:河南外科学杂志 年份:2003
术前急性高容量血液稀释是指在麻醉后手术前快速输注一定量的液体而不采集自体血,使血容量处于超容状态,降低红细胞压积,术中失血失液量用等量的液体来补充,它是一种有效的血...
[期刊论文] 作者:牛新环,谭武菊,王公明, 来源:中华临床医师杂志(电子版) 年份:2011
目的观察氟比洛芬酯复合舒芬太尼镇痛对肺癌患者外周血T淋巴细胞亚群和红细胞免疫功能的影响。方法将60例肺癌切除术术后行静脉自控镇痛(PCIA)患者随机分为两组,每组30例,A组术...
[期刊论文] 作者:周辉,张孟元,牛新环, 来源:麻醉安全与质控 年份:2018
颏、颈、胸重度烧伤患者,临床表现为颈部瘢痕挛缩严重,下颌与前胸瘢痕粘连,患者张口困难,后仰受限。此类患者存在面罩通气困难,声门显露困难,气道表麻困难等问题,严重影响手术,威胁患......
[期刊论文] 作者:韩力英,唐红梅,牛新环,, 来源:中国科技信息 年份:2013
EDA技术是现代电子设计的发展趋势,是现代电子设计工程师所必须掌握的技术。作为一门省级精品课程,不断进行教学改革是必然的。本文首先分析了EDA教学中存在的问题,在此基础...
[期刊论文] 作者:王娟,牛新环,高金雍,, 来源:学园:教育科研 年份:2012
针对人们对大学教育的错误认识,提出让学生正确认识大学教育的途径,关注学生的思想就是关注学生的未来,就是关注祖国的未来,学校的职能部门和教师应齐心合力,携手共进,为大学...
[会议论文] 作者:刘玉岭;牛新环;李广福;, 来源:中国工程院化工、冶金与材料工程学部第五届学术会议 年份:2005
经过实验和理论研究揭示了CMP动力学过程、速率控制过程,建立了CMP速率数学模型.发现在碱性介质下多羟多胺和铜及银离子能形成极稳定、溶解于水的络合物且与多种金属氧化物形...
[期刊论文] 作者:贾英茜,牛新环,王现彬,, 来源:微纳电子技术 年份:2015
CMP工艺水平很大程度上依赖于抛光液的组分及配比,组分之间的相互作用是化学机械抛光的研究内容之一。对以纳米SiO2为磨料、H2O2为氧化剂、有机碱为pH调节剂的钨碱性抛光液组...
[期刊论文] 作者:韩力英,牛新环,刘玉岭,, 来源:河北工业大学学报 年份:2011
随着超大规模集成电路向高集成、高可靠性及低成本的方向发展,对集成电路制作过程中的全局平坦化提出了更高的要求.ULSI多层布线CMP中粗糙度对器件的性能有明显影响,因此本文...
[期刊论文] 作者:王胜利,刘玉玲,牛新环,檀栢梅, 来源:中国有色金属学会会刊:英文版 年份:2006
CsLiB6O10(CLBO) is a new-type nonlinear optical crystal material. CLBO has many good performances, especially the frequency multiplication performance in de...
[期刊论文] 作者:韩丽丽,刘玉岭,牛新环,, 来源:微纳电子技术 年份:2012
依据铝的电化学腐蚀特性,阐明了碱性条件下铝化学机械抛光(CMP)的机理。由于铝的硬度较低,在抛光过程中容易产生微划伤等缺陷,因此首先探索出适宜铝化学机械抛光的低压条件(4...
[期刊论文] 作者:贾英茜,牛新环,腰彩红,, 来源:微电子学 年份:2017
化学机械抛光(CMP)工艺是IC工艺中大马士革工序的关键步骤。抛光液的电化学行为研究对抛光质量的控制具有重要意义。采用电化学测试手段,研究碱性抛光液中氧化剂(H_2O_2)对铜...
[期刊论文] 作者:刘俊杰,刘玉岭,牛新环,王如,, 来源:半导体技术 年份:2017
有机胺碱可与铜离子反应且产物在碱性条件下溶于水,这为硅通孔(TSV)铜膜的碱性化学机械抛光(CMP)提供了有利条件。研究了大分子有机胺碱对铜膜化学机械抛光的影响。首先测试...
[期刊论文] 作者:刘俊杰,刘玉岭,牛新环,王如,, 来源:稀有金属 年份:
研发了一种无氧化剂无抑制剂的新型碱性TSV精抛液,通过单因素实验确定FA/OⅠ型非离子表面活性剂和有机胺碱的体积分数,以使Cu/Ti/Si O2的去除速率满足选择比。根据表面活性剂...
[期刊论文] 作者:刘长宇,刘玉岭,王娟,牛新环,, 来源:半导体技术 年份:2006
随着计算机硬盘容量的增大、转速的提高、磁头与盘片间距离的降低,对硬盘基板材料选择及改善基板表面平整度提出了更高的要求。综述了硬盘基板材料的发展状况,指出了基板化学机......
[期刊论文] 作者:刘玉岭, 牛新环, 檀柏梅, 肖文明,, 来源:河北工业大学学报 年份:2009
随着国内外市场的极大需求及激烈竞争,固体表面高精密加工质量要求日益提高.化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面...
[期刊论文] 作者:洪姣, 刘国瑞, 牛新环, 刘玉岭,, 来源:微纳电子技术 年份:2004
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[期刊论文] 作者:李凤英,刘玉岭,牛新环,孙鸣,, 来源:微纳电子技术 年份:2016
研发了一种新型的碱性抛光液,用于提高Si晶圆的抛光速率以及循环使用时的高速率稳定性。分析了FA/OⅡ型螯合剂与KOH调节剂对Si晶圆抛光速率的影响,单因素实验发现:当FA/OⅡ型...
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