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[学位论文] 作者：甄淑颖,,
来源：哈尔滨工业大学 年份：2016
磁控溅射在薄膜制备领域具有广泛的应用,随着工业技术的发展,传统的磁控溅射已经不能满足对薄膜性能日益增长的高要求。高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)具有高峰值功率,高靶材粒子...
[学位论文] 作者：甄淑颖,
来源： 年份：2009
本文采用原位反应热压烧结工艺制备了ZrC-W复合材料,并用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱(EDS)等分析手段和三点弯曲、单边切口梁法、维氏硬度等测试方法对复合材料的组织结构及力学性能进行了系统研究。对复合材料的球磨混料工艺进行了初步探讨,系......
[期刊论文] 作者：甄淑颖,陈倪娇,唐光泽,马欣新,,
来源：金属热处理 年份：2013
主要研究了磁控溅射铜靶材刻蚀行为。通过改变同轴线圈中励磁电流的大小来调节铜靶表面磁场的分布,研究不同励磁电流及时间下刻蚀环的形貌,并研究了刻蚀形貌随时间的变化规律...
[期刊论文] 作者：董善亮, 霍思嘉, 甄淑颖, 张宇民, 王玉金,,
来源：材料导报 年份：2018
以B_4C、Zr、W为原料,采用反应热压烧结工艺制备了ZrB2-ZrC-W2Zr复合材料,系统研究了烧结温度对复合材料组织结构和力学性能的影响规律。结果表明,复合材料主要由ZrB2、ZrC、...
[会议论文] 作者：刘品旺,马欣新,唐光泽,甄淑颖,张兴洪,
来源：第十一届中国热处理活动周 年份：2016
采用自制柱形靶系统,利用高功率脉冲二级溅射技术在硅片基底上沉积TiN薄膜,利用扫描电子显微镜和纳米压痕仪分别对所制备的TiN膜的厚度、表面形貌和纳米硬度进行测试.结果表明:高功率脉冲二级溅射技术在合适的沉积工艺参数下可以比较稳定地制备TiN薄膜,表面平整......
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