搜索筛选:
搜索耗时2.2109秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 16 篇相符的论文内容
类      型:
[学位论文] 作者:禹金强, 来源:上海交通大学 年份:2000
该文系统地研究了磁致伸缩FeSiB单层膜和多层膜中的巨磁阻抗效应、薄膜应力对磁各向异性的影响、FeSiB薄膜中的磁性以及FeSiB薄膜在磁传感器和应力/应变传感器的应用前景等,...
[期刊论文] 作者:禹金强,沈乐天, 来源:金属学报 年份:1999
研究了三种不同处理的Ti-55合金在Hopkinson压杆上高速冲击变形时产生的热塑剪切带。结果表明,三种不同处理的合金试样在不同应变率下出现两类型剪切带:形变剪切带和“白色”剪切带,它们是在不......
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇, 来源:真空科学与技术 年份:2000
利用修正的Landau-Lifshitz-Gillert方程,对横向单轴磁各向异性软磁薄膜在高频下的有效横向磁导率做了理论推导,从而得到了关于薄膜高频阻抗的理论表达式,并与其它理论结果作了比较。结果表明,给出的有效......
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇, 来源:功能材料 年份:2000
采用射频磁控溅射法,在不同溅射条件下制备了FeSiB薄膜。研究了溅射条件下对薄膜应力、磁滞回线及磁阻抗效应的影响。结果表明:随着溅射氩气压强的增加,薄膜内应力从压应力变为张应力......
[期刊论文] 作者:胡全利,禹金强, 来源:东北大学学报:自然科学版 年份:1996
采用自制的专利设备成功地制备了全碳分子材料C60,分析了红外,拉曼光谱图,发现在527,576,1187,1430cm^-1处的4个C60的红外特性吸收峰,进行了理论计算,结果与实验基本吻合,由红外测试数值计算得出的力常数结果表明......
[期刊论文] 作者:禹金强,蔡炳初, 来源:真空科学与技术 年份:2000
采用射频溅射法在三组不同溅射条件下制备了FeSiB薄膜。测量了溅射薄的磁滞回线,并利用HP4194A阻抗分析仪,在1-40HMz频率范围内研究了样品的巨磁阻抗效应。......
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇,蔡炳初,, 来源:城市道桥与防洪 年份:2000
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥...
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇,蔡炳初,, 来源:真空科学与技术学报 年份:2000
[期刊论文] 作者:禹金强,蔡炳初,周勇,, 来源:真空科学与技术学报 年份:2000
[期刊论文] 作者:禹金强,禹金强,周惠华,沈乐天,徐永波,徐永波,白以龙, 来源:金属学报 年份:1999
研究了三种不同处理的Ti—55合金在Hopkinson压杆上高速冲击变形时产生的热塑剪切带结果表明,三种不同处理的合金试样在不同应变率下出现两种类型的剪切带:形变剪切带和“白色”剪切带.它们是......
[期刊论文] 作者:禹金强,蔡炳初,周勇,徐东, 来源:真空科学与技术 年份:2000
采用射频溅射法在三组不同溅射条件下制备了FeSiB薄膜。测量了溅射薄膜的磁滞回线 ,并利用HP 41 94A阻抗分析仪 ,在 1~ 40MHz频率范围内研究了样品的巨磁阻抗效应。结果表明 :...
[期刊论文] 作者:周勇,禹金强,赵小林,杨春生, 来源:真空科学与技术 年份:2001
用磁控溅射法在玻璃基片上制备了FeSiB/Cu/FeSiB多层膜 ,在 10 0kHz~ 40MHz范围内研究了FeSiB/Cu/FeSiB多层膜中的巨磁阻抗效应特性。当磁场强度Ha 施加在薄膜的长方向时 ,巨...
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇,蔡炳初,赵小林, 来源:功能材料 年份:2001
研究了封闭式和开放式FeSiB/Cu/FeSiB多层膜以及Cu/FeSiB/Cu多层膜中的巨磁阻抗效应.实验结果表明:多层膜的不同结构对巨磁阻抗效应影响很大.改变外加磁场,封闭式FeSiB/Cu/Fe...
[期刊论文] 作者:禹金强,周勇,蔡炳初,徐东, 来源:功能材料 年份:2001
采用经典电磁理论,对铁磁层/导电层/铁磁层(M/C/M)多层膜中出现的巨磁阻抗效应进行了理论分析.对于单轴横向磁各向异性多层膜,理论计算结果表明:高频阻抗在某一外加磁场(近似...
[期刊论文] 作者:茅昕辉, 禹金强, 周勇, 吴茂松, 蔡炳初,, 来源:真空科学与技术 年份:2002
软磁材料中存在巨磁阻抗 (giantmagneto impedance ,GMI)效应以及与之相同来源的应力阻抗 (stress impedance ,SI)效应 ,利用这两种效应可以制成具有高灵敏度的微型化的磁场...
[期刊论文] 作者:余晋岳,朱军,周狄,禹金强,俞爱斌,蔡炳初,魏福林, 来源:金属学报 年份:2004
观察和分析了300 μm×40 μm×40 nm的NiFe磁性薄膜元件在难轴方向反磁化时磁畴结构转变,特别是Neel畴壁从正极性壁(N+)转变为负极性壁(N-)的全过程.磁畴结构的转变包含畴壁...
相关搜索: