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[学位论文] 作者：考政晓,,
来源：河北工业大学 年份：2019
随着科学技术日新月异的进步和半导体技术的蓬勃发展,以碳化硅为代表的第三代半导体材料引起全球的广泛重视。单晶碳化硅用作外延生长衬底材料和大功率半导体器件,对其平坦化的质量提出了较高的要求。化学机械抛光(CMP)能使SiC表面达到较高的平整度,从而提高SiC......
[期刊论文] 作者：考政晓, 叶大千, 于璇, 张保国,,
来源：人工晶体学报 年份：2018
蓝宝石因为其生产技术成熟、稳定性好、性价比高而被广泛应用于光电领域,成为GaN基光电器件的主要衬底材料。传统的蓝宝石衬底生长GaN薄膜存在许多问题,如由晶格常数不同产生...
[期刊论文] 作者：于璇, 张保国, 考政晓, 杨盛华, 刘旭阳, 韦伟,,
来源：半导体技术 年份：2004
通过电化学和化学机械抛光（CMP）实验研究了紫外光及催化剂对GaN电化学特性及去除速率的影响。电化学实验结果表明,采用K2S2O8作为氧化剂时GaN的腐蚀电位随氧化剂的浓度增大而降...
[期刊论文] 作者：考政晓, 张保国, 于璇, 杨盛华, 王万堂, 刘旭阳, 韦,
来源：半导体技术 年份：2004
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技...
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