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[学位论文] 作者：肖兆娟,
来源： 年份：2006
新型负热膨胀(Negative Thermal Expansion简称NTE)材料ZrW_2O_8具有负热膨胀系数大、各向同性且响应温度范围宽等特点，在电子学、光学、通信、医学、日常生活等方面具有广阔的应用前景。但是目前国际上研究较多的为粉体、块材，而对ZrW_2O_8薄膜材料的研究还鲜有......
[期刊论文] 作者：肖兆娟,程晓农,严学华,,
来源：硅酸盐学报 年份：2006
在不同的气氛下，利用射频磁控溅射法在石英基片和硅片上制备了ZrW2O8薄膜。利用台阶仪和划痕仪测量了溅射薄膜的厚度和结合力，利用X射线衍射及原子力显微镜对薄膜的物相和表面......
[期刊论文] 作者：徐桂芳,程晓农,肖兆娟,杨娟,,
来源：江苏大学学报(自然科学版) 年份：2007
分别采用钨酸锆靶（ZrW2O8）和氧化锆（ZrO2）与氧化钨（WO3）的复合靶，在磁控溅射条件下制备钨酸锆（ZrW2O8）薄膜，研究了靶材制备工艺、复合靶成分配比以及热处理温度对薄膜成分的影响，并对薄......
[期刊论文] 作者：严学华,程晓农,肖兆娟,徐桂芳,,
来源：江苏大学学报(自然科学版) 年份：2007
以高纯ZrO2和WO3复合氧化物为靶材，采用射频磁控溅射方法在石英基片上制备ZrW2O8薄膜．对不同热处理温度后的薄膜进行XRD分析，结果表明，在650℃下薄膜为无定形，ZrW2O8晶化起始温度......
[期刊论文] 作者：徐桂芳,程晓农,严学华,杨娟,肖兆娟,
来源：硅酸盐学报 年份：2008
采用射频磁控溅射法在石英基片上制备了厚度约为200nm的ZrW2O8薄膜。在不同温度下对薄膜进行热处理,通过X射线衍射和扫描电镜研究了热处理温度与热处理过程中通氧量大小对ZrW...
[会议论文] 作者：徐桂芳,程晓农,杨娟,肖兆娟,严学华,
来源：2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛 年份：2006
本文研究了热处理温度与处理过程中通氧条件对ZrW2O8薄膜组分与形态的影响。XRD和SEM分析结果表明：随着热处理温度的升高薄膜由非晶态转变为晶态,转变初期薄膜表面凹凸不平,随...
[期刊论文] 作者：徐桂芳,程晓农,严学华,杨娟,肖兆娟,,
来源：硅酸盐学报 年份：2008
采用射频磁控溅射法在石英基片上制备了厚度约为200nm的ZrW2O8薄膜。在不同温度下对薄膜进行热处理,通过X射线衍射和扫描电镜研究了热处理温度与热处理过程中通氧量大小对ZrW...
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