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[期刊论文] 作者:范崇治,, 来源:太阳能 年份:2013
槽式抛物面太阳场运行温度的提高,由400℃至>450℃,能增加总太阳发电效率和减小槽式抛物面发电厂的发电成本。当前的太阳选择性涂层不具备在较高工作温度所需的稳定性和工作...
[期刊论文] 作者:范崇治, 来源:太阳能 年份:2004
开发了可进行线性放大的等离子源,在活性等离子体中用于清除金属在压轧时的油污.本文提供了等离子源的设计和性能,表面清洁度是用和水的接触角来估计的;氧的等离子体对油的去...
[期刊论文] 作者:范崇治,, 来源:太阳能 年份:2014
在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点轰击能量,沉积技术如离子团束(ICB)沉积、偏...
[期刊论文] 作者:范崇治, 来源:太阳能 年份:2014
有沾污的金属片清洁是用HPLC级水与金属表面接触角的测定来进行,接触角用量角测量,更精确用动态接触角仪测量,所有测量中都用水10μL.样品从系统取出后立即进行接触角测量,用...
[期刊论文] 作者:范崇治,, 来源:太阳能 年份:2014
有沾污的金属片清洁是用HPLC级水与金属表面接触角的测定来进行,接触角用量角测量,更精确用动态接触角仪测量,所有测量中都用水10μL。样品从系统取出后立即进行接触角测量,...
[期刊论文] 作者:范崇治, 来源:清华大学学报(自然科学版) 年份:1965
模拟有空间由荷存在时的电子轨迹,需要把有注流元件的电介槽与轨迹仪配合使用。在此过程中,计算注入电流的工作极为繁复,因为它需要知道各点的电子速度,也就是需要知道各点电位分......
[期刊论文] 作者:杨华中,范崇治, 来源:电子学报 年份:1994
本文引入了一个概率空间来描述集成电路合格率优化问题,并将合格率表示为可行域的概率测度。所提出的变权重MonteCarlo法适合于合格率不太高的场合,而改进后的SA算法则适合于合格率比较高的......
[期刊论文] 作者:杨华中,范崇治, 来源:电子学报 年份:1996
本文提出了一种通用的、从S-域输函数入手进行模拟集成电路结构级综合的方法,并详细地讨论了提高电路性能和合格率的电路技巧。...
[会议论文] 作者:杨华中,范崇治, 来源:中国电子学会电路与系统学会第十一届年会 年份:1993
[会议论文] 作者:杨华中,范崇治, 来源:中国电子学会电路与系统学会第十一届年会 年份:1993
[期刊论文] 作者:范崇治,殷志强, 来源:太阳能 年份:2014
图4a和4b分别为在UV-近红外光谱,刚沉积和经后退火工艺两种情况下的TiO2膜。以上两种情况在可见光区域透射比几乎相同,与后退火无关。O2流量为10~50sccm时,沉积的TiO2膜在可见光...
[期刊论文] 作者:范崇治,殷志强,, 来源:太阳能 年份:2014
在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点轰击能量,沉积技术如离子团束(ICB)沉积、偏置......
[期刊论文] 作者:范崇治,殷志强, 来源:太阳能 年份:2014
2实验结果和讨论2.1阴极和沉积特性典型空心阴极I-V,特性如图2所示,HC中有铜靶块并用氩气作为工作气体。在气流量和放电电流一定时,压强越低需放电电压越高。在给定真空室压强情......
[期刊论文] 作者:范崇治,殷志强, 来源:太阳能 年份:2014
光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0~ 50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa.在氧气流量为30 sccm时,TiO2...
[期刊论文] 作者:范崇治,殷志强, 来源:太阳能 年份:2014
透明导电氧化物薄膜,例如SnO2、ITO、ZnO,有很多应用,如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶,它含有ZnO和2%(重量比)Al2O3,无论如何靶的......
[期刊论文] 作者:范崇治(译),殷志强(校), 来源:太阳能 年份:2014
有沾污的金属片清洁是用HPLC级水与金属表面接触角的测定来进行,接触角用量角测量,更精确用动态接触角仪测量,所有测量中都用水10μL。样品从系统取出后立即进行接触角测量,用等......
[期刊论文] 作者:范崇治(译),殷志强(校), 来源:太阳能 年份:2013
槽式抛物面太阳场运行温度的提高,由400℃至〉450℃,能增加总太阳发电效率和减小槽式抛物面发电厂的发电成本。当前的太阳选择性涂层不具备在较高工作温度所需的稳定性和工作性......
[期刊论文] 作者:范崇治(译),殷志强(校), 来源:太阳能 年份:2014
研究了薄膜沉积方法,基于空心阴极金属溅射,在基材附近提供反应气体。工作气体和携带溅射原子通过一个狭长通道从阴极出来,这样,反应气体被阻止到达靶面。用Cu靶和脉冲电源激励,研......
[期刊论文] 作者:范崇治(译),殷志强(校), 来源:太阳能 年份:2014
开发了可进行线性放大的等离子源,在活性等离子体中用于清除金属在压轧时的油污。本文提供了等离子源的设计和性能,表面清洁度是用和水的接触角来估计的;氧的等离子体对油的去除......
[期刊论文] 作者:范崇治(译),殷志强(校), 来源:太阳能 年份:2013
为了方便,Taguchi阵列涂层标识为1/x,x是阵列的实验数,同样,第2阵列(次实验)为2/x。...
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