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[期刊论文] 作者：茅哲民,
来源：上海半导体 年份：1990
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[期刊论文] 作者：茅哲民,
来源：半导体技术 年份：1981
一、引言 目前国内不少单位,在制作大规模集成电路光刻掩模版时,都采用国外的高解象力干版,以直接精缩的办法,为生产线上提供光刻版。这样做,虽然在光刻版的几何图形完整率...
[期刊论文] 作者：茅哲民,
来源：红讯半导体 年份：1990
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[期刊论文] 作者：茅哲民,
来源：红讯半导体 年份：1989
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[期刊论文] 作者：茅哲民,
来源：半导体技术 年份：1984
出于本厂生产技术需要,笔者由80年下半年开始对低反射铬版经过从理论探索、实际设想到反复试验的一系列努力,完成了对低反射铬版的整个试制工作,又经过近二年的正式生产应用,...
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